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8 天
CVD设备盘中异动 下午盘股价大涨6.85%报3.59美元
北京时间2024年12月07日04时12分,CVD设备(CVV.us)股票出现异动,股价急速上涨6.85%。截至发稿,该股报3.59美元/股,成交量2.6525万股,换手率0.39%,振幅6.58%。
24 天
湖南玉丰真空新专利:化学气相沉积升级,工作效率再提升!
在当前的全球工业改革浪潮中,技术创新是推动企业增长的重要因素。2024年11月21日,金融界报道,湖南玉丰真空科学技术有限公司(以下简称“玉丰真空”)向国家知识产权局申请了一项名为“化学气相沉积设备升降传输连动镀膜机构”的专利。这一专利的提出,标志着在化学气相沉积 (CVD) 技术领域的一次技术革新,旨在显著提升设备的工作效率,解决传统设备存在的众多问题。 一、悬念揭开:为何选择化学气相沉积设备?
中国粉体网
1 年
流化床气相沉积设备FB-CVD
反应器内的粉体材料在载气的带动下形成流化态,再进行包覆、烧结等工艺。以流化床为反应器的CVD工艺具有包覆均匀等特点。目前较为成熟的设备为小试、中试级设备。 小试流化床气相沉积反应器为公司*早开发并推广的产品之一,拥有较高的技术成熟度。
搜狐
1 个月
CVD化学气相沉积系统的应用领域介绍
制备纳米材料 CVD系统可用于合成纳米材料,如碳纳米管、石墨烯、半导体纳米线等3。 电子设备组件 电子设备组件(如高效太阳能电池板、存储系统 ...
中国粉体网
24 天
卷对卷连续化生长CVD设备RTR-III-80
该设备为我司研发用于石墨烯薄膜连续生长或者线性材料的连续的专用设备,此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉,它由高温生长腔体,三路质量流量计气路系统,真空机组,石英管,冷却装置,收放卷的密封装置,自动化控制系统组成,两端分别安装有进 ...
证券时报官方网站
9 天
深耕半导体设备领域 拓荆科技跨越“0到N”
在A股市场,以半导体装备为主业的辽宁上市公司中,拓荆科技(688072)是国内专用量产型PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD及混合键合设备领军企业。截至2024年6月底,拓荆科技已累计承担9项国家重大专项(课题),并被中国半导体行业协会多次评为 ...
来自MSN
12 个月
四方达:自主研发MPCVD设备及CVD金刚石工艺用于生产高品质大尺寸超 ...
四方达(300179.SZ)12月20日在投资者互动平台表示,公司一直专注于金刚石领域的研究和开发,聚焦CVD金刚石产业链技术,自主研发MPCVD设备及CVD金刚 ...
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